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ULTRA 酸性光亮镀铜工艺
1.镀液杂质容忍量高，容易控制，镀层填 的填平度极佳。 2.镀层不易产生针孔，内应力低，延展性好。 3.电流密度范围宽阔，镀层填平度高至75%，达到光亮效果。 4.沉积速度特快，在4.5安培/平方分米的电流密度下，每分钟可镀出1微米的铜层，电镀时间因而缩短。 5.适用范围宽广，可应用于铁件，锌合金、铜合金、塑料等各种不同类型的基材。
所属分类：
产品应用
溶液组成及操作条件
| 硫酸铜 | 195-255克/升 |
| 硫酸 | 50-100克/升 |
| 氯离子 | 80-100毫克/升 |
| Ultra Mu | 8-10毫升/升 |
| Ultra A | 0.6-0.8毫升/升 |
| Ultra B | 0.4-0.6毫升/升 |
| 温度 | 18-35℃ |
| 电流密度 | 1.5-8安培/平方分米 |
| 生产维护： | |
| Ultra Mu | 30-50毫升/千安培小时 |
| Ultra A | 50-60毫升/千安培小时 |
| Ultra B | 30-50毫升/千安培小时 |
关键词：
达志化学
化学除油
电解除油
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