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ULTRA 酸性光亮镀铜工艺

1.镀液杂质容忍量高,容易控制,镀层填 的填平度极佳。 2.镀层不易产生针孔,内应力低,延展性好。 3.电流密度范围宽阔,镀层填平度高至75%,达到光亮效果。 4.沉积速度特快,在4.5安培/平方分米的电流密度下,每分钟可镀出1微米的铜层,电镀时间因而缩短。 5.适用范围宽广,可应用于铁件,锌合金、铜合金、塑料等各种不同类型的基材。


所属分类:


产品应用


溶液组成及操作条件

 

硫酸铜 195-255克/升
硫酸 50-100克/升
氯离子 80-100毫克/升
Ultra  Mu 8-10毫升/升
Ultra  A 0.6-0.8毫升/升
Ultra  B 0.4-0.6毫升/升
温度 18-35℃
电流密度 1.5-8安培/平方分米
生产维护:  
Ultra  Mu 30-50毫升/千安培小时
Ultra  A 50-60毫升/千安培小时
Ultra  B 30-50毫升/千安培小时

 

关键词:

达志化学

化学除油

电解除油